基板WET洗浄装置は、主に半導体や電子部品製造工程で使用される装置で、基板の表面を液体（薬品や水）を使って洗浄するための装置です。物質や加工残渣（レジストや金属イオンなど）を取り除き、製造工程の品質を向上させます。 以下は、一般的な基板WET洗浄装置の特徴と使用例についての概要です。

主な特徴

1.プロセスに応じた薬液は
酸（HCl、H2SO4など）やアルカリ（KOH、NH4OHなど）、有機溶媒、純水（DI水）など、洗浄目的に応じた薬液が使用されます。

2.洗浄方式

・ディップ（浸漬）洗浄：基板を液槽に浸して洗浄する方法。

・スプレー洗浄：液体をスプレー状に噴射して基板表面を洗浄。

・メガソニック/超音波洗浄：超音波を利用して微細な汚れを除去します。

3.乾燥
・洗浄機能後の基板を乾燥させる工程が含まれることが多い（IPA乾燥、N2ブローなど）。

4.自動化
・自動搬送システムやロボットアームを組み込んで、高精度かつ効率的に洗浄を行う装置もあります。

5.主な用途

・半導体製造：ウェハー洗浄（エッチング残渣の除去、レジスト剥離、酸化膜洗浄）。

・プリント基板（PCB）製造：銅配線の表面処理や加工後の汚染物質除去。

・ディスプレイ製造:液晶やOLED製造工程での洗浄。

・MEMS・センサー製造:微細構造の汚染防止。

6.利点

・製品の歩留まり向上。

・微細加工に対応可能な高い洗浄能力。

・処理後の残留汚染物質を最小限に抑えます。

代表的なメーカー

・SCREENホールディングス

・東京エレクトロン（TEL）

・アドバンテスト

・アプライドマテリアルズ