フィルム通光線照射露光転写とは、光を通してフィルム上のパターンを感光性材料（レジストなど）に転写する技術です。これは、半導体製造や印刷技術（スクリーン印刷など）で使用される露光プロセスの一種です。

基本原理

1. フィルムマスクの準備

   • 転写したいパターンが描かれたフィルム（フォトマスク）を使用します。
   • フィルムは透明部と遮光部があり、光を通す部分と遮る部分を形成します。

2. 光源からの光照射

   • 紫外線（UV）や可視光などの特定の波長の光を光源から照射します。
   • 光はフィルムの透明部分を通過し、遮光部分ではブロックされます。

3. 感光性材料（フォトレジスト）への露光

   • フィルムを通過した光が、下にある感光性材料（フォトレジスト）に到達します。
   • 光が当たる部分と当たらない部分で化学的な変化が起こります。

4. 現像プロセス

   • 露光後、現像液で処理することで、光が当たった部分（または当たらなかった部分）が除去され、パターンが形成されます。
   • ネガ型またはポジ型のフォトレジストを使い分けることで、露光部が残るか除去されるかが変わります。

5. エッチングまたは加工

   • 露光・現像後のフォトレジストをマスクとして、基板にエッチングや成膜などの加工を行い、最終的なパターンを形成します。

応用分野

• エッチング銘板
• プリント基板（PCB）の製造
• 半導体製造（フォトリソグラフィー技術）
• スクリーン印刷やシルクスクリーン製版
  
• フレキシブル電子回路やバイオセンサー製造

この技術の精度は、光源の波長やフィルムの解像度、露光条件などに依存します。

Tweet